Российская ЭКБ класса space, часть 2

[cross-track]

Так я и смотрю на факты. Есть по факту в России литограф на 130 нанометров для микроэлектроники? На 65 нанометров? На 45 нанометров? Этот ряд вы можете продолжить.

На 20 устроит? Был выше.

Конечно устроит. Так есть по факту в России литограф на 20 нанометров для микроэлектроники?

Четыре года назад был, сейчас не знаю.

И Мантуров не знает?!

[nonconvex]

Так я и смотрю на факты. Есть по факту в России литограф на 130 нанометров для микроэлектроники? На 65 нанометров? На 45 нанометров? Этот ряд вы можете продолжить.

На 20 устроит? Был выше.

Конечно устроит. Так есть по факту в России литограф на 20 нанометров для микроэлектроники?

Четыре года назад был, сейчас не знаю.

И Мантуров не знает?!

Задайте вопрос ему. 

[cross-track]

Так я и смотрю на факты. Есть по факту в России литограф на 130 нанометров для микроэлектроники? На 65 нанометров? На 45 нанометров? Этот ряд вы можете продолжить.

На 20 устроит? Был выше.

Конечно устроит. Так есть по факту в России литограф на 20 нанометров для микроэлектроники?

Четыре года назад был, сейчас не знаю.

И Мантуров не знает?!

Задайте вопрос ему.

Зачем? Чтобы выставить себя на посмешище с идиотским вопросом?!

[Sembler]

И Мантуров не знает?!

Это очень секретное оборудование, про которое даже первый вице-премьер не знает. Настолько секретное, что с его помощью не изготовили ни одной микросхемы.

nonconvex, примите реальность и не витайте в фантазиях. Очень осторожно относитесь к победным сообщениям институтов - еще лет десять назад они превзошли 1 нм. Я общался с работником Микрон, но он, даже в приукрашенном рассказе, не переступал 90 нм.
Объясните самому себе - почему, имея "полный комплекс технологического оборудования уровня 65/45/28 нм", только к концу 2026 года планируют (глагол будущего времени) освоить литограф на 130 нм. Обратите внимание, что Мантуров не заявлял его отечественной разработкой.
Объясните себе, зачем создаваемой корпорации "Объединенная микроэлектронная компания" собираются выделить солидные деньги, чтобы она к 2030 году создала оборудование для производства по норме 28 нм, когда, как Вы считаете, "в России уже четыре года есть литограф на 20 нм".

Непосредственно перед известными событиями НМ-Тех (Зеленоград) успел закупить некоторое оборудование, объявил, что нанимает за нескромные деньги иностранных специалистов из тайваньской компании и обещал им небо в алмазах. Но затем... специалисты уехали.

[nonconvex]

Объясните, зачем создаваемой корпорации "Объединенная микроэлектронная компания" собираются выделить солидные деньги, чтобы она к 2030 году создала оборудование для производства по норме 28 нм, когда, как Вы считаете, "в России уже четыре года есть литограф на 20 нм".

Затем, что опытные и мелкосерийные приборы - это одно, а промышленные линии - другое. Но одно другому не противоречит. 

[irodov]

Объясните самому себе - почему, имея "полный комплекс технологического оборудования уровня 65/45/28 нм", только к концу 2026 года планируют (глагол будущего времени) освоить литограф на 130 нм. Обратите внимание, что Мантуров не заявлял его отечественной разработкой.

При чем здесь речь, пока, о демонстраторе технологий скорее, а не промышленном образце.

[testest]

Какие-то пустые споры о вещах, которые не являются тайной.На Микроне стоят итальянские литографы на 90/180 нм (180 - с двойным шагом). Из-за того, что на 90 нм выход годных низкий (т. е. очень большой процент брака), его используют редко, а основным техпроцессом Микрона является 180 нм. 65 нм на этих литографах в рамках эксперимента достигли специалисты с Тайваня, которые после 2014 года уехали и не смогли завершить работу. Наверное, Микрон мог бы попробовать что-то выдавить на 65 нм, но не факт, и там брака будет > 99%, так что это бессмысленно.

На других наших мелкосерийных производствах есть 250/350/500 нм (Курчатов) и 500-1000 нм.Это не морально устаревшее оборудование. У всех литографов своя ниша. Япония, например, ежегодно поставляет несколько десятков литографов на 300+ нм. Мелкие техпроцессы нужны для процессоров ПК, ноутбуков, смартфонов, видеокарт и ИИ. Средние - для встраиваемой электроники. Сотни нм - для силовой.

Сейчас в России активно продвигают белорусский литограф Планара на 350 нм, и зеленоградский ЗНТЦ ведет работу по его модернизации до 130 нм. Сдача работы планируется в этом году. И нет, это не просто демонстратор технологий. Для этого надо заменить лазерный источник излучения (сейчас испытывают эксимерный лазер на 193 нм) и много остального. В планах дальнейшая модернизация этого литографа до 90, затем 65, а возможно и 28 нм.

Все эти литографы используют DUV лазеры (глубокий ультрафиолет). Современные литографы ASML (28 нм и мельче) используют EUV (extreme ultraviolet, а по нашей классификации это рентгеновский диапазон). EUV - другой уровень, он нам ни в какой в обозримой перспективе не светит. Китайцы при помощи многослойных масок, впрочем, на своих DUV-литографах дотянулись до 7 нм.

Space grade электроника на западе делается на 40-65-90 нм. Нам было бы прекрасно и с 90 нм, вот только радиационно стойкие IP-блоки (схемы переноса логических элементов в физическую форму) есть лишь 180 нм и выше. Разработать новые - задача сложная, а предприятия, которые это могли бы сделать (тот же Элвис), сильно загружены другой работой, и это вообще для государства не приоритет.

[nonconvex]

Все эти литографы используют DUV лазеры (глубокий ультрафиолет). Современные литографы ASML (28 нм и мельче) используют EUV (extreme ultraviolet, а по нашей классификации это рентгеновский диапазон). EUV - другой уровень, он нам ни в какой в обозримой перспективе не светит. Китайцы при помощи многослойных масок, впрочем, на своих DUV-литографах дотянулись до 7 нм.

Да что вы такое говорите? И про 13-нм источник на парах олова, разработанный в том числе для ASML десять лет назад в Троицке вы тоже не слышали?

https://www.kommersant.ru/doc/2133972

[irodov]

зеленоградский ЗНТЦ ведет работу по его модернизации до 130 нм.

Нет, на 130нм это другой литограф.

И нет, это не просто демонстратор технологий.

Это именно демонстратор. Т.к. это ОКР.

Да что вы такое говорите? И про 13-нм источник на парах олова, разработанный в том числе для ASML десять лет назад в Троицке вы тоже не слышали?

Это чушь. У нас были выполнены некоторые этапы НИР по этой теме, а не разработан сам источник.

[Кот Бегемот]

В сети опубликовали дорожную карту для российской EUV-литографии — 10 нм к 2037 году
По сообщению портала Tom's Hardware, Институт физики микроструктур РАН составил довольно амбициозную дорожную карту для отечественного литографического оборудования.
Новый проект рассчитан на период с 2026 по 2037 год. К окончанию этого срока специалисты планируют внедрить техпроцессы менее 10 нм. Интересно, что российские EUV-системы не будут копировать решения нидерландской компании ASML. Отечественные разработчики хотят использовать совершенно другой набор технологий: гибридные твердотельные лазеры, источники света на основе ксеноновой плазмы и зеркала из рутения и бериллия, которые отражают свет с длиной волны 11,2 нм. А вместо капель олова будет ксенон, что позволит избежать лишнего мусора, который повреждает фотошаблоны.
Дорожная карта включает три основных этапа. На первом этапе (2026–2028 гг.) будет разрабатываться литографический станок со степпингом 40 нм, точностью наложения 10 нм и полем засветки 3 × 3 мм. Его производительность должна составить более пяти пластин в час.

На втором этапе (2029–2032 гг.) планируют вести работу над сканером с длиной волны 28 нм. Он получит четырехзеркальную оптическую систему и обеспечит точность наложения 5 нм. Также говорится о поле экспозиции 26 × 0,5 мм и производительности около 50 пластин в час.

На последнем этапе (2033–2036 гг.) займутся созданием машины с показателем менее 10 нм. Она будет иметь конфигурацию из шести зеркал, точность наложения до 2 нм и поле засветки 26 × 2 мм. К этому моменту инженеры рассчитывают выпускать более 100 пластин в час.

Преимущества и вызовы

Главное преимущество — снижение капитальных и операционных затрат по сравнению с ASML. Однако остаются серьёзные вызовы: длина волны 11,2 нм не является отраслевым стандартом. Это потребует дополнительных исследований в области разработки новых зеркал, источников света, полировочных технологий, резистов и инфраструктуры в целом.
Возможные сценарии
Российский проект делает ставку не на гигантские фабрики, а на относительно компактные и экономичные линии. В случае успеха такие системы могут заинтересовать игроков вне экосистемы ASML, обеспечив нишевое, но конкурентоспособное присутствие на рынке.

https://club.dns-shop.ru/digest/154171-v-seti-opublikovali-dorojnuu-kartu-dlya-rossiiskoi-euv-litografii/?utm_referrer=https%3A%2F%2Fwww.google.com%2F

https://www.cta.ru/news/cta/182308.html 

https://russianelectronics.ru/institut-fiziki-mikrostruktur-rossijskoj-akademii-nauk-sostavil-dolgosrochnuyu-dorozhnuyu-kartu-dlya-otechestvennogo-oborudovaniya-euv-litografii-rabotayushhego-na-dline-volny-112-nm/

https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/russia-outlines-euv-litho-chipmaking-tool-roadmap-through-2037-country-eyes-replacing-duv-with-euv-but-plans-appear-unrealistic

Вы не можете просматривать это вложение.

[testest]

Да что вы такое говорите? И про 13-нм источник на парах олова, разработанный в том числе для ASML десять лет назад в Троицке вы тоже не слышали?

Литограф - это огромная куча разных технологий, а не один только источник излучения. Оптика, зеркала, высокоточное совмещение, надо научиться производить маски и т. д.

[testest]

Нет, на 130нм это другой литограф.

Нет, буквально за основу взять планаровский, и он модернизируется.

Это именно демонстратор. Т.к. это ОКР.

Когда выход на серийный образец планируется в течение года после завершения ОКР - это не просто демонстратор.

[irodov]

Нет, буквально за основу взять планаровский, и он модернизируется.

Невозможно, там другое вообще всё. Это как за основу для самолёта взять трактор.

Когда выход на серийный образец планируется в течение года после завершения ОКР - это не просто демонстратор.

Не планируется. Ну и планы всегда сдвигаются.

[Кот Бегемот]

Не планируется

В РОССИИ ЗАПУСТЯТ МАССОВОЕ ПРОИЗВОДСТВО ЧИПОВ ДЛЯ БЕСПИЛОТНИКОВ

Научно-исследовательский институт электронной техники планирует в 2026 году выпустить не менее 200 тысяч отечественных 32-битных микропроцессоров. Новинки призваны полностью заменить микроконтроллеры STMicroelectronics STM32, которые используются в беспилотниках.

Главным отличием российских чипов от западных аналогов станет использование открытой архитектуры RISC-V. В отличие от британской ARM, на которой строятся STM32, RISC-V позволяет российским разработчикам полностью контролировать процесс проектирования и не зависеть от лицензионных ограничений. Производство планируется развернуть на мощностях завода «Микрон» по техпроцессу 90 нм.

Источник: Ведомости

https://max.ru/rossiya_segodnya/AZxqx5xYaTs

«БАЙКАЛ ЭЛЕКТРОНИКС» ПОСТАВИТ В РОССИЮ МИЛЛИОН НОВЫХ ЧИПОВ ЗА ГОД

«Байкал Электроникс» поставит на отечественный рынок миллион своих новых микроконтроллеров Baikal-U в 2026 году.

Baikal-U могут применяться на объектах критической информационной инфраструктуры в составе комплексов АСУ ТП, датчиков безопасности, приборов учета, устройств ввода-вывода и интернета вещей (IoT), а также в системах управления БПЛА.

Baikal-U — трехъядерный 32-битный микроконтроллер общего назначения. Baikal-U использует отечественные ядра от компании CloudBEAR, построенные на открытой архитектуре RISC-V.

Микроконтроллер имеет в основе три ядра (2×CloudBEAR BR-350 32bit, 200Мгц; и 1×CloudBEAR BM-310 32bit, 100Мгц ), два DMA контроллера, 48 линий GPIO, три восьмиканальных 12-разрядных АЦП с поддержкой дифференциальных входов и функции измерения температуры, встроенный MicroPython. Память: 192 КБ SRAM (в т.ч. 160 КБ TCM), 256 КБ eFLASH, 16 МБ FLASH (в XIP режиме).

Источник: Cnews

https://max.ru/rossiya_segodnya/AZxrYdmVS5A

[irodov]

Планируется

Вы хотя бы читаете что цитируете?  

[Кот Бегемот]

Вы хотя бы читаете что цитируете?

И что не так? 200тыс камней 90нм в этом году..

[irodov]

И что не так? 200тыс камней 90нм в этом году..

Речь о собственном оборудовании, а на Микроне импортное оборудование.

[Кот Бегемот]

Речь о собственном оборудовании, а на Микроне импортное оборудование.

А да, простите, (сегодня прощенное воскресенье) что-то не в ту степь понесло.
По теме на 350 уже создан на 130 в этом году.

«На 2026 год запланировано завершение работы над литографом с параметром 130 нанометров. Развитие будет постепенным», - отметил Шпак в интервью радиостанции РБК.

Он напомнил о создании первого российского литографа с разрешением 350 нанометров в сотрудничестве с Беларусью. Ожидается, что поставки этого оборудования на российские заводы стартуют в 2026 году. А уже к 2028 году отечественные специалисты планируют освоить производство собственных чипов с технологическим процессом 28 нанометров.
Необходимо также обратить внимание на тот факт, что в современном мире чипы размером 350 нанометров уже считаются большеразмерными, но, несмотря на это, они продолжают использоваться во многих отраслях экономики, в том числе в автомобильной промышленности, энергетике и телекоммуникациях.
Текущая международная обстановка подталкивает Россию к активному развитию технологической независимости. Именно эти соображения лежат в основе государственной поддержки подобных разработок.

https://www.asms.ru/news/rossiya-planiruet-zavershit-sozdanie-litografa-na-130-nm-v-2026-godu.html
Подождем, посмотрим, как дела пойдут.

[irodov]

на 130 в этом году.

Сомнительно. Даже источника ещё нет.

[Дмитрий В.]

https://tehnoomsk.ru/archives/23887